• +7(8412) 56-55-63
  • +7(8412) 56-27-81
  • +7(8412) 56-26-16
  • E-mail: info@niifi.ru
Получение микроструктур на высокоточной системе лазерной литографии DWL 66 FS с непосредственным формированием изображения

Получение микроструктур на высокоточной системе лазерной литографии DWL 66 FS с непосредственным формированием изображения

Система лазерной литографии DWL 66 FS позволяет получать микроструктуры на кремнии, стекле, пленках и других материалах с фоторезистивным покрытием методом проекционной лазерной литографии, а также изготавливать прецизионные фотошаблоны.

Основные параметры:

  • размер подложек: до 200×200 мм;
  • активная область нанесения рисунка: 170×185 мм;
  • минимальный размер элемента 0,6 мкм;
  • наличие камеры для ориентации (совмещения);
  • совмещение по обратной стороне;
  • точность совмещения до 500 нм;
  • формат исходных данных (DXF, CIF, GDSII, Gerber).

Дополнительную информацию Вы можете получить по телефонам: (841-2) 59-19-42, 59-32-20.


Возврат к списку

Научная деятельность